发射与节奏
决定从哪里进入、进入多少，以及波群的强弱起伏。
发射节奏
节奏参数说明
波群保留持续细流，强弱不同的波群错落叠加。波间隔按模拟秒计，整体速度统一缩放；暂停冻结发射。波次速度差异为每一波分配固定快慢，25% 表示约 0.75–1.25 倍，0 为等速；调整只影响新波次。波内速度差异给同一波的粒子分别分配固定倍率，默认 12%，调整对新出生粒子生效。设为 0 可恢复波内等速。已有轨迹、绕流方向与刚体阻挡继续保留。力场箭头显示公共场速度，粒子的实际速度还乘以本波和自身的倍率。
力场与绕流
选择场的构建方式，再调局部变化与 Logo 避让。
流体烟带 · D2Q9 TRT
动态边界压力
局部响应使用连续截面、插值反弹和画外吸收层。边缘吸收设为 0 可单独比较边界改动；细碎压力稳定开关控制上一轮的模态修正。切换保留当前运动。
参考 Logo 宽度 240。来流速度、Re 与精度改变会重建求解器；尾迹约束、剪切扰动与混合即时生效。支持旋转实体的真实截面绕流，以及前后跨越与遮挡。
Perlin Noise
平滑噪声的旋度驱动流动；尺度调大形成宽缓弯曲，演变速度 0 可冻结场形态。
Reaction-Diffusion
F / K 改变结构形态；预设会重新生成化学场，现有粒子继续运动。尺度是网格单元大小，调大可放大图案；改变尺度或种子会重新生成结构。
输送与种子
输送 1 延续原主流，调低可突出局部回旋。切换场保留粒子与拖尾；重新生成只改变场结构。
场运行信息
主流与恢复
主流与恢复说明
入流速度设定主流基准；主流恢复越高，Logo 边界绕行对远处的影响越快减弱。
路径游移
宽缓的风带持续改变内侧穿缝与外侧绕行的比例。不同时间进入的轨迹会交错；少量穿过空区的长轨迹帮助读清路线。关闭可对照原来的分流。
边界与避让
绕流、贴边与外扩
Logo 绕流强度控制模型对附近流向的影响，1 为原效果，0 关闭提前绕流，2 增强偏转；实体碰撞仍保留。贴边约束控制离开边界的自由度；外扩控制与尖角的间距，缝隙内侧自动减小。实体碰撞与防穿模始终保留，已有拖尾随运动逐渐更新。
鼠标扰动 半径 · 惯性记忆
顶部“鼠标交互”控制总开关。
求解精度 进阶
光迹与光晕
调线的长短、粗细、疏密、颜色与发光。
烟带显影
局部流光 亮段 · 亮度 · 光晕
烟带由密度累积形成，平缓处连接、尾迹中自然逸散。流光沿烟带传播，速度倍率仅影响流光，烟带速度保持不变；1×随烟带、2×更快穿行。亮芯亮度、流光光晕和 Logo 光晕分别调整。
近 Logo 提亮
沿 Logo 的实际投影轮廓柔和增强，远处保持原有亮度。范围按 Logo 宽度计；仅改变显示，不影响流速和尾涡。浅色背景下增强油墨对比。
形态与分布
亮芯与流线光晕
亮度与光晕说明
亮芯亮度、光晕强度、光晕范围独立调节。扩大范围会摊开柔光，不额外增强亮芯；光晕作用于少量亮长轨迹。
尾流显示 渐暗 · 粗细 · 长短
仅调整下游显示；粗细、长度小于 1 更细更短，大于 1 更粗更长。
前后层次 显示效果
通过粗细和明暗表现层次，粒子仍在原流面上。
粒子细节 进阶
Logo 与文字
调整文案排版，以及 Logo 的颜色、材质和发光。
Logo 显影与两组颜色
烟带在立体笔画表面攀行与缠绕。可切回实体，当前尾流和运动不中断。
树脂细节
倒角宽度 0 表示关闭倒角；调高可对照。
Logo 攀行烟带
独立版：170 条、圆润 95%、水平 −35°、俯仰 −11°，厚度按 Logo 宽度 16% 缩放。拖动挤出厚度后改为固定像素。历史文件方案采用 −16°／−8°、厚度 10%。
攀行与缠绕
把左下笔画的缠绕表面延伸到尖角附近，以圆润端部接回原路径。仅影响 Logo 烟带，不改变背景流场。
颗粒与显影
表面噪声
沿用“烟带”会话的真实三维历史与微粒显影，角度、尺寸、厚度跟随当前 Logo。烟带形体不填实体色；实体仍用于背景流场阻挡与前后遮挡。
流光反射 Logo 与环境的联系
反射附近流线与亮段。时间平滑减轻细碎闪动，程度越高，亮起与回落越柔和。强度 0 无局部反光，最高 3。
预设与运行状态
整套配置对照、显示优化对照与性能信息。
发布预设
预设一完整保留你的定稿；预设二更细、更慢、更柔和；预设三增加密度与局部变化。三套均保留当前流体尾流参数，可继续自由调节。显示开关独立保存。
整套参数预设
两份快照保留对应调试阶段的参数，选择预设会应用整套配置。
显示优化对照
控制尾流显示、Logo 局部反光、前后层次；各自的开关在“光迹”与“Logo”中。
重置配置 恢复模式默认
恢复当前视觉模式的默认配置，其他模式单独保留。